Elektronik und KI · 2006
Immersionslithografie
Halbleiterfabriken erreichen feinere Strukturen und mehr Ausstoß je Stufe.
historisch
Epoche VI
Voraussetzungen
Halbleiter1999 · Grundstock
Elektronik und KI
Immersionslithografie2006
Schaltet frei
FinFET-Fertigungsknoten2011
Wirkungen
- Produktionsmethode Immersionsknoten für Halbleiterwerk
- Zweig
- Elektronik und KI
- Historisches Jahr
- 2006
- Forschungskosten
- 3.200
- Epoche
- VI
Daten aus dem aktuellen Build (content.json). Kosten in Forschungspunkten; im Spiel teurer bei Vorgriff, günstiger bei Rückstand.